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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统沉积系统
OpAL系统是一种直立式热原子层沉积(ALD)设备,配备等离子体选项。它能够简单地实现从热ALD升级到等离子体ALD,在一个紧凑的结构上实现等离子体和热ALD。紧凑型直立式热原子层沉积(ALD)设备
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统
OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD,这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子层沉积
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德国Sentech等离子体增强原子层沉积机PE-ALD
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德国Sentech等离子体增强原子层沉积机PE-ALD
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牛津仪器 牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统
OpAL系统是一种直接开放式热原子层沉积(ALD)设备,具有等离子体选项。它可以升级为等离子体ALD,这样就可以在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。这款紧凑型直接开放式热原子层沉积(ALD
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统 应用存储电容电介质
所谓的原子层沉积技术,是指通过将气相前驱体交替脉冲通入反应室并在沉积基体表面发生气固相化学吸附反应形成薄膜的一种方法。OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统 应用高K栅氧化物
黄金阶段。进入21世纪,随着适应各种制备需求的商品化ALD仪器的研制成功,无论在基础研究还是实际应用方面,原子层沉积技术都受到人们越来越多的关注。OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统 应用纳米多孔结构的涂层
并完善。OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD,这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子
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原子层沉积(ALD)ForgeNanoTHEIA
THEIA 超快平面原子层沉积系统以高性能、稳定和灵活为特点,能够满足科学研究的各种需求,并且无缝衔接研发和生产之间的转换。产品规格:1. 专利技术SMFD-ALDTM,超快沉积速度为12-30nm
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ForgeNano原子层沉积(ALD)超快平面原子层沉积系统
THEIA 超快平面原子层沉积系统(ALD)是一款高性能、稳定、灵活、可靠且安全的研发型设备,具备工业生产解决方案的优势。THEIA 可以进行升级改造,以满足科学研究的各种需求,实现从“研发”到
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